化学机械抛光(CMP)设备应用提案
CMP设备在转台上使用多个摆臂机构,比如将如抛光垫修整器等移动到位的机构。 下面我们将为您介绍CMP机械臂机构的课题解决方案! |
机械臂机构及主要驱动源
为保证在整个晶圆上均匀分配适量的材料,CMP工艺在材料去除过程中施加不同的力,并精确停止。
因此,为摆臂机构提供精确定位控制非常重要,合理的选用响应快速的驱动源,以避免抛光过多的基材。

![]()
|
|
机械臂 转动 –— DGⅡ系列 省配线与驱动大惯性
目的:将摆臂水平移动定位,以进行抛光或调节等操作。
中空旋转式传动装置DGⅡ系列可直接安装大惯性工作台及机械臂等,可减少机构设计、零件调配、组装状态调节等花费的时间与费用。
应用:半导体制程(晶圆清洗设备)设备(▶点此查看详细介绍)
旋转平台驱动清洗臂摆动,中空设计实现清洗液输送配管可由中空部轻松通过,设计更紧凑。

目的:将摆臂水平移动定位,以进行抛光或调节等操作。
中空旋转式传动装置DGⅡ系列可直接安装大惯性工作台及机械臂等,可减少机构设计、零件调配、组装状态调节等花费的时间与费用。
![]()
|
![]() |
可驱动多种机械臂规格·大容许惯性力矩
以下为各规格可驱动的大致机械臂参考长度及负载质量,实际选用请结合机构尺寸及驱动条件进行综合选型计算,可进一步洽询东方马达。
|
|
应用:半导体制程(晶圆清洗设备)设备(▶点此查看详细介绍)
旋转平台驱动清洗臂摆动,中空设计实现清洗液输送配管可由中空部轻松通过,设计更紧凑。
一体化・大口径中空孔设计
可直接将负载安装在旋转平台上,不仅省去传动机构,方便安装,更能通过中空设计实现由下而上的配线・配管。
大口径中空孔(贯穿)可用于布线复杂的配线、气动及液压配管等场合,使装置设计更为简洁。

引申应用:液体分装设备
中空设计实现液体输送配管可由中空部通过,管道布置更紧凑。
中空设计实现液体输送配管可由中空部通过,管道布置更紧凑。
小型化
DGⅡ系列备有电动机垂直组装型、水平组装型,可根据装置内的安装空间进行选择。垂直组装型可将电动机隐藏到安装板之下,最小仅需35.5mm高度即可安装负载。


AZ系列产品用于机械臂机构的优势
齿条移动方向(垂直)的应用,实现高反复定位精度,确保物料的准确的顶升。
|
|
●功能安全
|
电动升降机械臂的旋转部时,可使用东方马达的DRS2系列及EZS系列。 DRS2系列安装尺寸60㎜,虽机身小巧,但最大能发挥500N的推力, 适用于小型机械臂旋转机构的升降轴。
|
●搭载AZ系列的便利功能
方便的运行·设定
使用AZ系列的功能,能够通过中空旋转式传动装置的旋转平台执行坐标管理,可以实现以下运行:
・就近绝对移动缩短生产周期 | ・设定禁止进入范围使控制简单 | |
是指朝向设定的目标位置,按移动距离最短的旋转方向
执行驱动的功能。可缩短装置的生产周期。 ![]() |
装置上有障碍物等时,
可在旋转平台上设定禁止进入范围。 ![]() |
缩短装置启动时间 出厂时已预设运行中空旋转式传动装置所需参数,可缩短装置启动时间。·原点位置
·分辨率设定(0.01°/step)
·旋转平台的旋转方向设定
·Round设定±180°
●各初始设定值可以更改。
|
![]() |
搭载产品
![]() |
|