化学机械抛光（CMP）设备应用提案
| CMP设备在转台上使用多个摆臂机构，比如将如抛光垫修整器等移动到位的机构。 下面我们将为您介绍CMP机械臂机构的课题解决方案！ |
机械臂机构及主要驱动源
为保证在整个晶圆上均匀分配适量的材料，CMP工艺在材料去除过程中施加不同的力，并精确停止。
因此，为摆臂机构提供精确定位控制非常重要，合理的选用响应快速的驱动源，以避免抛光过多的基材。
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机械臂 升降 –— DRS2系列 兼顾高精度、小型化与大可搬运质量
目的：将摆臂升降移动定位，以便进行接触抛光或高度调节等操作。
通过组合高精度的αSTEP AZ系列和滚珠螺杆，在机械臂升降工位上提供高精度定位的DRS2系列小型电动缸方案，与自行组装的机构相比，装置全长缩短、更紧凑。
目的：将摆臂升降移动定位，以便进行接触抛光或高度调节等操作。
通过组合高精度的αSTEP AZ系列和滚珠螺杆，在机械臂升降工位上提供高精度定位的DRS2系列小型电动缸方案，与自行组装的机构相比，装置全长缩短、更紧凑。
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 小型电动缸 DRS2系列 |
适用于微小移动量·高精度定位
| 中空转子和滚珠螺杆螺母一体化的紧小型机体，可实现装置的高精度定位与小型化。 不需要连接部件，减少因联轴器等连结部件而产生的精度影响，实现更高精度的定位。 ●驱动螺杆分为研磨滚珠螺杆和滚轧滚珠螺杆2种 【最小移动量】0.001mm 【反复定位精度】 研磨滚珠螺杆：±0.003mm 滚轧滚珠螺杆：±0.01mm
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减少连结部件，实现省空间化
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将工作物移动相同冲程量时的两种构成范例， 以下为构成部件数的比较。
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应用：半导体制程设备（晶圆Pin针顶升机构） （▶点此查看详细介绍） 设备空间小型化要求加剧，面向多层化、多腔体的半导体制程相关设计，DRS2系列小型电动缸充分发挥降低高度方面的小型化应用优势。  *图示仅供示意参考，需外置导轨设计。
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垂直可搬运质量
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以下为各规格可垂直搬运的负载质量，实际选用请结合机构负载设计及驱动条件综合选型计算， 可进一步洽询东方马达。（▶点此查看各销售点联络方式）
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应用：半导体制程（晶圆清洗设备）设备 （▶点此查看详细介绍） 机械臂的升降设计采用小型电动缸驱动，无需过多的配件设置，搭载机械式绝对编码器应用，整体设计更简洁、紧凑。  |
断电时保护的带电磁制动
电源OFF时，保持停止位置。带电磁制动规格的采用，即使垂直安装，也不必担心维护作业中机械臂掉落。
