化学机械抛光（CMP）设备应用提案
| CMP设备在转台上使用多个摆臂机构，比如将如抛光垫修整器等移动到位的机构。 下面我们将为您介绍CMP机械臂机构的课题解决方案！ |
机械臂机构及主要驱动源
为保证在整个晶圆上均匀分配适量的材料，CMP工艺在材料去除过程中施加不同的力，并精确停止。
因此，为摆臂机构提供精确定位控制非常重要，合理的选用响应快速的驱动源，以避免抛光过多的基材。
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末端执行器 转动—AZ系列 FC减速机型降低机械臂高度
目的：以一定的速度旋转晶圆，以抵抗抛光垫的摩擦。
目的：以一定的速度旋转晶圆，以抵抗抛光垫的摩擦。
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 AZ系列 FC减速机型 |
αSTEP AZ系列 FC减速机型是由半轴齿轮（圆盘状的齿轮）与直齿轮构成的直交轴减速机。相对于负载轴，电动机可呈直角安装，有助于省空间。
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